集成電路超純水設備

型號：集成電路超純水設備
電壓：220V
特點：可生產一級、二級、三級純水
應用：集成電路實驗室、生產用超純水

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集成電路超純水設備

在大規模的集成電路超純水水質中，優先獲得關注的水質指標為：電阻率、TOC、硅、微粒、重金屬、溶解氧、堿金屬等，這類物質會溶于水中，而在集成電路芯片的制造過程中，使用的水質中所含離子成分越多，則對產品的制造工藝的影響越大，使得產品良率降低。

集成電路的超純水設備常用于工業半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩膜板的制作以及硅片氧化用的水汽源等。此外真空管等的制作、厚膜和薄膜電路、固態電子器件、印刷電路等也都是需要使用超純水。隨著科技的不斷發展，集成電路的集成度與日俱增，對水質的要求也隨之增高，從而使得超純水處理工藝及產品的可持續性、生產的連續性、設備的自動化和簡易性都提出了更加嚴格的要求。

工藝流程：

原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→第一級反滲透 →PH調節→中間水箱→第二級反滲透（反滲透膜表面帶正電荷）→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點

滲源純水針對于現在的集成電路用超純水設備采用先進的全自動雙級反滲透+EDI電除鹽+拋光混床處理技術，在前置預處理部分配套使用反滲透處理，能有效的去除水中各種鹽分和雜質，緊接著使用EDI電除鹽和拋光混床技術，能有效的去除水質的可溶性離子，進一步的提升出水水質，使得最終的出水水質達到用水工藝要求。

設備特點：

1.采用進口增壓泵，噪音低效率高，穩定可靠
2.全自動電控程序，還可選配觸摸屏操作，使用方便。
3.采用全自動預處理系統，實現無人化操作，減少人工維護成本。
4.采用進口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長，運行成本低廉。
5.切合當地水質的個性化設計，全方位滿足需求。
6.在線水質監測控制，實時監測水質變化，保障水質安全。
7.節省了再生用水及再生污水處理設施，產水率高(可達95%)。
8.無須酸堿儲備和酸堿稀釋運送設施，使用安全可靠，避免工人接觸酸堿。
9.簡化安裝過程，降低場地占地面積。

應用領域：

1、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水。
2、晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制。
3、半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗。
4、集成電路生產中高純水清洗硅片。
5、電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液。
6、光電產品、其他高科技精微產品。
7、顯像管和陰極射線管生產、配料用純水。
8、電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗。